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福建中伟半导体获得高效整理洗刷设备专利可进步清洗功率
日期：2024-12-10 | 作者: 移动式反应釜清洗解决方案
金融界2024年10月25日音讯，国家知识产权局信息数据显现，福建中伟半导体资料有限公司获得一项名为“一种高效整理洗刷设备”的专利，授权公告号CN 221861589 U，请求日期为2023年12月。
专利摘要显现，本实用新型触及清洗技术领域，且公开了一种高效整理洗刷设备，包含水槽，水槽的顶部设有支撑框，支撑框的顶部设有电机，电机的一侧喷水设备，支撑框的一端吹风设备，支撑框的顶部内壁上设置有间歇滚动设备，水槽的上端设有吊杆，吊杆的一侧设有放置器，该实用新型能够一次对多片晶圆进行整理洗刷，并且在清洗后直接进行烘干，防止费时吃力，一起防止晶圆在屡次转移时产生损坏，进步清洗功率。
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